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第659章 光刻机里的DPP方案（第2页）
……
……
两天后，陈平江已经从沪上赶往了祖国的最北端。
在哈工大的校园里，陈平江见到了赵永鹏。
“哈哈，陈董，虽是初次见面，却已经神交已久啊。”
赵永鹏亲热的同陈平江握手。
陈平江笑眯眯道：“赵教授不必客气叫我小陈就好，今天我过来是特意对您的卓越贡献表示感谢的。”
陈平江说不用客气，赵永鹏哪里敢真的叫他小陈，只当是客套话。
“军功章也应当有你的一半，如果不是之前您的资助和多方面协助，我们也不会如此顺利。”
赵永鹏招招手，“我们去实验室看看。”
陈平江来到哈工大，之前已经和校方打过招呼，希望低调处理，这才没有引起围观。
这次过来完全是因为赵永鹏团队顺利研发出“放电等离子体极紫外光刻光源”
的缘故。
这个项目，陈平江已经跟了好几年，前后资助不下2000万，并且表示不要任何知识产权，如今终于到了开花结果的时候。
宽敞明亮的实验室内。
陈平江身着无尘服，戴着口罩仔细听着赵永鹏介绍。
“在演示之前，我有必要说下。
这台机器的光源焦点功率只有43瓦，与asml的最近两代EUV光源250-500瓦，差距还是巨大的，目前只能称之为实验室阶段，不过我们团队有信心，在两年内将功率提升到200瓦。”
陈平江点了点头，表示理解。
毕竟在EUV中光源也只是一部分，还需要其他十万个零件一起协同配合。
但不管怎么说，也搞定了最关键的一个部分。
在当前的EUV光刻机技术上，存在两种光刻机技术路线。
一种是DPP方案（放电产生等离子体），一种是LPP方案（激光产生等离子体）。
当前全球唯一一家能生产EUV光刻机，垄断了全球高端光刻机市场的公司——荷兰ASML公司，采用的就是LPP方案。
哈工大的这个“放电等离子体极紫外光刻光源”
，从名字上就能看出它走的是DPP方案。
DPP方案最大的一个问题就是光源的焦点功率不足。
光刻机的光源是用来烧石头（单晶硅）的，功率不足自然就烧不动，也就没法蚀刻出芯片。
好在，因为专利的限制，当前中国走DPP方案的EUV光刻机研究，是要比走LPP方案容易的。
虽然当前DPP方案还无法商用，暂且无法用在EUV光刻机身上，但DPP方案技术是会进步的。
DPP方案本身优势也不小，比如光源稳定、对清洁度要求低，以及成本更低。
并且，陈平江也不会将鸡蛋放在一个篮子里。
除了哈工大这头，XX光电所和沪上某家研究所都有资助，大家进度不一，路线也不同。
任何一方取得最终突破，都会大大提前国产EUV光刻机问世的时间。
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