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第326章 我深爱着他（第2页）

大家知道了唐熠的事情，都十分气愤，表示无论付出什么代价，都一定要帮唐熠脱罪。

蒋凡晞很欣慰。

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井勤在中关村附近的酒店公寓为这些学生安排了住处，大家都向单位请了长假，随时准备着投入研发工作。

他们现如今都是计算机领域、机械领域及电子光学领域的科研人员，对光刻机的原理有一定的理论基础，加上任泫寒和蒋凡晞自己，以及外聘的工程师、教授和技术员，一支二十多人的光刻机研发队伍组成了。

团队里有几位是国内另一家光刻机制造公司的工程师。他们有多年的光刻机整机制造经验，在他们的协助下，研发光刻机所需的设备、技术、配件和实验室很快就落实了。

项目由这几位工程师带头，蒋凡晞作为项目领头人，早早拿到了工艺图纸。

建造一台光刻机不难，难的是找到突破口，研究出目前世界上最先进的5nm光刻技术。

“咱们国家目前的情况是——”

会议室里，项目总工程师钟宏正跟大家详细介绍国内目前的光刻机技术。

“28nm已经研发成功，今年量产。不过实验室现在已经有22nm光刻技术的研究成果，但能不能投入使用，还要经过一段时间的试验。”

坐在投影幕布对面、会议长桌主位上的蒋凡晞在资料册上写下备注：“28nm可量产，22nm待定。”

钟宏继续发言：“目前，能做5nm光刻机的只有荷兰那家，它的技术是euv极紫外线，用的是13.5nm波长的光源，这是突破10nm芯片制程节点必不可少的工具。”

有人附议：“他们euv极紫外线的光源也是找美国进口。”

蒋凡晞点点头，在资料册上简单备注后，总结道：“意思就是——即使我们有euv技术，但也不一定能进口到最佳光源。要彻底解决这个问题，只能是完全摒弃euv技术，另辟蹊径，寻找其他替代性的技术。”

“是这样没错。其实70年代咱们就已经有制造光刻机的经验了，经验是很充足的，但低纳米技术的光刻机为何迟迟做不出来？就是卡在这里！什么时候突破这个节点，咱们就不必再被人卡着脖子了。”

钟宏笑说：“与其说咱们在研发5nm光刻机，倒不如说研发替代euv的新型光源技术。说研发光刻机听上去太难太累，那么大一台机子，压在心口上喘不过气啊是不是？咱们说研发一个什么技术，那听上去就轻松多了，是吧？所以大家放松点，咱们可以的！”

大伙都笑了，会议室里响动着年轻的笑声，原本严肃的气氛轻松了不少。

蒋凡晞也笑了。

确实听钟宏这么一番讲解，心情好像没那么压抑了。

她自己做研发工作的，最能理解研发成果有时候也受情绪的影响。

钟宏在投影幕布前讲解着目前几大可能替代euv的光源技术，然后将与会所有人员分成三个小组，每一组负责研发一种替代技术，什么时候研发出来，什么时候结束。

蒋凡晞没有参与分组，因为她打算到时候每一组都去看看情况。

……

实验室每一天都在烧钱，做研发工作需要大量资金的支持，蒋凡晞和任泫寒决定各自减持手头上20%的fx的股份，套出四亿现金用以支持光刻机的研发。

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